光电化学工作站可以根据自己的需要做更多的探索
点击次数：5502 更新时间：2019-10-25
光电化学工作站是将光化学与电化学方法合并使用，以研究分子或离子的基态或激发态的氧化还原反应现象、规律及应用的仪器，可用于研究光直接影响电极过程的电化学、用于光能与电能和化学能的转换测量、光电化学电池的光电转化测量、光电合成。利用光电化学原理可以富集稀有金属和贵金属，又可以记录和保存信息，还可用简单的方法随时消去信息，这些都是发展科学技术所必需的手段。
光电化学工作站采用闭环控制技术调节和调制光强和单色光, 从而保证了光源的稳定性. 在仪器匹配的光源内装有光强传感器, 工作时系统自动比较并计算测得的实际光强与设定值的偏差并加以校正,这样就消除了由于光源器件的非线性、老化、以及温度漂移产生的光强输出误差。不仅如此，光电化学工作站仪器还允许直接输入单位为(W/cm2)的具体数值校正光源，非常方便。该工作站负责控制、驱动激发光源，输出强度调制光信号。
一、其他常规的电化学方法
恒电位技术：开路电位&时间测量曲线、单电位阶越计时电流法、双电位阶越计时电流法、单电位阶越计时电量法、
双电位阶越计时电量法、恒电位电解库仑分析法；
线性扫描技术：线性扫描伏安法、循环伏安法、塔菲尔（Tafel）曲线测量、线性扫描溶出伏安法；
脉冲技术：微分脉冲伏安法、微分脉冲溶出伏安法；
方波技术：方波伏安法、方波溶出伏安法(EIS，CV等所有电化学功能)。
二、光电化学工作站支持的应用
支持的直流实验技术：
循环伏安、线性扫描、开路电位、计时电流/计时库伦、线性扫描计时电流、计时电位、差分脉冲伏安、常规脉冲伏安、方波伏安、三角波伏安、驰豫伏安、阶梯伏安、Tafel扫描、脉冲电镀、溶出伏安
支持的交流技术：
交流阻抗（EIS）、不同参数下的交流阻抗（如：莫特-肖特基等）、频响分析
支持的充放电方法：
恒电流充放电、恒电压充放电、恒电阻放电、恒功率放电、满功率放电、限制容量充放电、充放电期间的电化学阻抗测试、稳态电流/电压曲线
三、光电化学工作站软件操作灵活
1、采用更易于接触的类office风格测试界面，所有命令一目了然的显示于下拉菜单之中，使初学者能够在Z短的时候内熟悉软件操作，并且开放源代码给用户，可以根据自己的需要做更多的探索。
2、软件强大的编程能力，光电化学工作站用户可根据对实现体系的设计和理解，做上述所有电化学方法和电化学过程的组合，而这些操作，仅通过鼠标即可实现。
3、离线分析处理，电化学软件可脱机使用，从而避免了分析数据需要占用测试电脑的尴尬，而数据处理的地点也可以更加的轻松随意。
